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离子镀 蒸发物资的份子被电子碰撞电离后以离子堆积在固体外面,称为离子镀。这类技巧是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技巧的联合。一种离子镀体系如图4[离子镀体系示意图],将基片台作为阴极,外壳作阳极,充入惰性气体(如)以发生辉光放电。从蒸发祥蒸发的份子经由过程等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加快打到基片外面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也堆积在基片或真空室壁外面。








薄膜吸收的潮气取代微孔和空隙,造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不变,这种折射率升高伴有相应的光学厚度的增加,反过来造成薄膜光谱特性向长波方向的漂移。由空气进入镀膜后再进入玻璃穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 / ( 1.5+1.8 )2]=95.2%可是我们若能在镀膜的厚度上下点功夫,会发现反射光A与反射光B相差 nc×2D 的光程差。

光学镀膜(Optical coating)或薄膜镀膜(film coating)是对玻璃、镜子、电脑屏幕、光纤元件等产品进行金属镀膜的一种制造工艺。对光学涂层有不同类型的要求。在某些情况下,例如在镜子中,期望的效果是产生具有高反射率的产品。通过选择具有相反折射率的材料并堆叠它们,对于显微镜或相机中使用的镜头,光学涂层用于折射光线,而不是反射光线。